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イオン研磨機ArBlade 5000
ArBlade 5000は、日立イオンミルの高性能モデル。超高速断面研磨を実現しています。高効率断面加工機能により、電子ミラー断面観察時のサンプル加工をより簡単にすることができる。
製品の詳細
イオン研磨機ArBlade 5000
ArBlade 5000は、日立イオンミルの高性能モデル。
超高速断面研磨を実現しています。
高効率断面加工機能により、電子ミラー断面観察時のサンプル加工をより簡単にすることができる。
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特徴
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仕様
特徴
断面研磨速度が最大1 mm/h*1！
新開発のPLUSIIイオンガンは高電流密度イオンビームを放出し、大幅に向上*2研磨速度を上げた。
- *1
- Si突出遮蔽板エッジ100µm、1時間最大加工深さ
- *2
- 研磨速度は当社製品（IM 4000 PLUS：2014製）の2倍
断面研磨結果の比較
（試料：シャープペンシル芯、研磨時間：1.5時間）
当社製品IM 4000 PLUS
ArBlade 5000
最大断面研磨幅8 mm！
広域断面研磨サンプルホルダーを使用し、加工幅は8 mmに達することができ、電子部品などの研磨に非常に適している。
ふくごうがたけんさくけい
IM 4000シリーズ複合型（断面研磨、平面研磨）イオン研磨器が好評を得ている。
必要に応じてサンプルを前処理することができます。
断面研磨
切断や機械研磨では処理が困難な軟質材料や複合材料の断面作製
平面研磨
機械研磨後のサンプルの仕上げまたは表面洗浄
断面研磨加工の概略図
平面研磨加工の概略図
仕様
| 共通 | |
|---|---|
| 使用ガス | Ar（アルゴン）ガス |
| かそくでんあつ | 0～8 kV |
| 断面研磨 | |
| 最速研磨速度（材料Si） | 1 mm/hr*1以上1 mm/hr含有*1 |
| 最大研磨幅 | 8 mm*2 |
| 最大サンプルサイズ | 20(W) × 12(D) × 7(H) mm |
| サンプル移動範囲 | X ±7 mm、Y 0~+3 mm |
| イオンビーム間欠加工機能 | 標準構成 |
| 揺動角度 | ±15°、±30°、±40° |
| 平面研磨 | |
| 最大加工範囲 | φ32 mm |
| 最大サンプルサイズ | φ50 × 25(H) mm |
| サンプル移動範囲 | X 0～+5 mm |
| イオンビーム間欠加工機能 | 標準構成 |
| かいてんそくど | 1 r/m、25 r/m |
| 傾斜角度 | 0～90° |
- *1
- Si突出遮蔽板エッジ100µm、1時間最大加工深さ
- *2
- 広域断面研磨サンプルホルダーを使用する場合
オプション
| プロジェクト | 内容 |
|---|---|
| 高耐摩耗遮蔽板 | 耐摩耗遮蔽板は標準遮蔽板の2倍程度（コバルトを含まない） |
| 加工監視用顕微鏡 | 拡大倍率15×〜100×両目型、三目型（CCDを装填可能） |
関連製品区分
- 電界放出走査電子顕微鏡（FE−SEM）
- 走査電子顕微鏡（SEM）
- 透過型電子顕微鏡（TEM/STEM）
オンライン照会
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連絡先
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会社
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